MIT-kutatók kidolgoztak egy új módszert, amely a chipgyártás mellett számos más területre (nanoelektronika, nano-biológiai rendszerek létrehozása stb.) lehet komoly hatással.
Az MIT kutatói egy olyan új eljárást találtak, amellyel különlegesen vékony vonalakból álló mikrochip mintákat lehet létrehozni. Az eljárás egy olyan anyag használatán alapul, amely bizonyos hullámhosszúságú fény hatására átlátszóvá vagy homályossá válik. Ilyen anyagokkal régóta kisérleteznek, azonban a kutatóknak most sikerült egy olyan eljárást találniuk, amely a gyakorlatban is jól használható eredményt nyújt. Ha a mintázatok létrehozása fény segítségével történik, a legtöbb mai módszer esetében a mintázat vonalainak szélessége nem lehet kisebb, mint az alakmazott fény hullámhossza. Az új eljárás segítségével lehetőség nyílik ennek a korlátnak az átlépésére. A megoldás lényege összetett interferencia-mintázatok alkalmazása, amelynek eredményeként a különböző hullámhosszúságú fénysugarak erősítik, vagy kioltják egymást. A kutatók által abszobció-modulációnak nevezett eljárás lehetővé teszi a használt fény hullámhosszánál tízszer kisebb vonalak létrehozását. A megoldás fontos részét képezi egy olyan fényérzékeny anyag, amely a fénnyel való első érintkezést követően már nem változtatja meg tulajdonságát, azaz áttetsző vagy átlátszatlan marad. A kidolgozott eljárásnak nagy hatása lehet a mikrochip gyártásra, és olyan egyéb nano mintázatokat használó területekre, mint például a nano-fotonika, nano-fluidika, nano-elektronika és a nano-biológiai rendszerek. Az eljárás üzleti hasznosítására egy spin-off céget hoztak létre. A széles körű ipari alkalmazás öt éven belül megtörténhet.
Komment: A nano méretű integrált áramkörök létrehozásának gyakorlati technológiái mostanában kezdenek kialakulni. Széleskörű elterjedésükhöz, azonban még legalább 5-10 év szükséges.
Forrás: web.mit.edu
Nincsenek megjegyzések:
Megjegyzés küldése